这几种膜料都无吸收性，几乎每一个TiO2蒸着遵循一个原则：在可使用的光谱区内取得可以忽略的 吸收性，这样可以降低氧气压力的限制以及温度和蒸着速度的限制.TiO2需要使用IAD助镀，氧气输入口在挡板下面.

Ti3O5比其它类型的氧化物贵一些，可是很多人认为这种材料不稳定性的风险要小一些，PULKER等人指出，折射率与无吸收性是随着氧气压力和蒸着温度而改变的，基板温度高则得到高的折射率.例如，基板板温度为400℃时在550纳米波长得到的折射率为2.63 次数用完API KEY 超过次数限制

iO2/SiO2制程中都使用300EV的驱动电压，目的是在两种材料中都使用无栅极离子源，这样避免每一层都改变驱动电压，驱动电压高低的选择取决于TiO2所允许的范围，而蒸着速度的高低取决于完全致密且无吸收膜所允许之范围. TiO?用于防反膜，分光膜，冷光膜，滤光片，高反膜,眼镜膜，热反射镜等，黑色颗粒状，熔点：1175℃

透光范围（nm) 折射率（N) 500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量

400--12000 2.35 2000-2200 电子枪，防反膜，增透 多

TiO2用于防反膜，装饰膜，滤光片，高反膜

Ti2O3用于防反膜 滤光片 高反膜 眼镜膜 次数用完API KEY 超过次数限制

沉积技术以气相沉积法为主，按原理可分为化学气相沉积法和物理气相沉积方法两大类。

PVD法相对于CVD方法有独特的优势，因此在金属多层膜的制备过程中，大多采用PVD方法。

PVD方法可呈现多种不同形式，如真空蒸发沉积、溅射沉积、离子束和离子束辐照沉积、分子束外延沉积、脉冲激光沉积、离化团簇束沉积、脉冲电弧沉积等。

市场上的薄膜品种很多，但常用的印刷膜有BOPP，NY，PET，PE。就印刷而言，重要的当然是薄膜的表面处理效果，NY膜是否受潮。印刷时应该制定对膜的表面张力一个膜卷一测的工艺要求。 次数用完API KEY 超过次数限制